有機溶媒を用いない半導体製造プロセスの開発

大邱慶北（テグキョンブク）科学技術院（DGIST）のチョン・デソン教授の研究チームが界面活性剤を用いた水性半導体インクの製造技術を開発した事を明らかにしました。

高分子半導体は半導体特性を持つ炭素化合物で、柔軟性に優れ軽く、溶液工程を通じて安価で大面積にすることが可能なためウェアラブル機器向けに脚光を浴びています。

一方で、高分子半導体は、疎水性を有するため、毒性を有する有機溶媒が必要であるなど、製造工程が環境汚染の原因となる事が問題となっており、毒性のない新たな製造工程が求められていました。

これに対し研究チームは界面活性剤を用いた半導体表面制御技術を開発しました。研究チームが開発したのは、「水性半導体インク」を用いて高分子半導体を製作する「水分散ポリマー半導体コロイド」技術で、簡易な化学的改質を通じて水に半導体材料を分散することができます。また、このプロセスに適した界面活性剤の条件も確立しました。

チョン教授は「ウェアラブル電子素子の核心素材として脚光を浴びている有機半導体の環境汚染問題を根本的に解決した研究」とし、「トランジスタから太陽電池、複合回路、イメージセンサーなど、様々な光電子素子の製作に活用されるだろう」と期待感を示しました。

今回の研究成果は「Energy & Environmental Science」に掲載されました。
（出所：韓国・電子新聞、2017年11月15日付け内容）
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