＜韓国：先端素材＞ラジカルの反応性を活用した触媒技術の開発

韓国研究財団は、KAISTのイ・ユンホ教授の研究チームが、電子がペアを成さない状態で存在するラジカルの非常に高い反応性を利用して、常温・常圧で、水素・一酸化炭素などの小さな分子を効率的に活性化する技術の開発に成功したことを明らかにしました。

研究チームは、ラジカルの性質を利用できるよう開発された配位子（リガンド）を利用してT字型のニッケル錯体を作り小分子の活性反応を検証した結果、水素・一酸化炭素・二酸化炭素・エチレンなどの小分子を、常温・常圧で正常に活性化できることを確認しました。

今回の研究成果は、国際学術誌アンゲヴァンテ・ケミー (Angewandte Chemie）に表紙論文（Back cover）として掲載されました。

配位子：孤立電子対を持つ基を有しており、この基が金属と配位結合し、錯体を形成したもの。
配位結合：結合を形成する二つの原子の一方からのみ結合電子が分子軌道に提供される化学結合。
錯体：配位結合や水素結合によって形成された分子の総称。
水素結合：電気陰性度の高い二つの原子が水素原子を介して結びつく化学結合。
電気陰性度：分子内の原子が電子を引き寄せる強さの相対的尺度。
（出所：韓国・ニュース1、2017年7月23日付け内容）
（参考：wikipedia、welbo辞書）
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